本州化学工業株式会社 [HONSHU CHEMICAL INDUSTRY website]
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沿革
大正
3年 (1914)
11月
創業者の由良浅次郎らが由良精工合資会社を設立
日本で最初にベンゼン精留装置を建設し、アニリンの工業化に成功する
4年 (1915)
1月
小雑賀工場(現 和歌山工場)を建設
2月
合成フェノールの製造を開始沿革(創業当時の従業員)

昭和
17年 (1942)
9月
本店を東京市日本橋区に移転 ( ※ 現在の東京都中央区 )
23年 (1948)
9月
京都研究所を設立沿革(京都研究所 正門と研究風景)


27年 (1952)
10月
共和電化工業(旧・由良化学工業)株式会社と合併し由良精工株式会社を設立
29年 (1954)
3月
ジフェニルアミンの製造を開始
30年 (1955)
10月
社名を本州化学工業株式会社に変更
33年 (1958)
1月
西ドイツ(現・ドイツ)のヒュルス社とベンゼン水添法シクロヘキサノン製造技術で提携
35年 (1960)
7月
増資(増資後の資本金275百万円)
10月
シクロヘキサノンの製造を開始
36年 (1961)
3月
ビスフェノールAの製造を開始
12月
東京証券取引所市場第二部に上場
増資(増資後の資本金450百万円)
44年 (1969)
4月
ハイメタクレゾール酸、粗BHTの製造を開始
45年 (1970)
7月
OSBPの製造を開始
46年 (1971)
1月
トリメチルフェノールの製造を開始
52年 (1977)
11月
増資(増資後の資本金500百万円)
59年 (1984)
10月
京都研究所と和歌山工場研究部門を統合し、総合研究所を設立
60年 (1985)
6月
多目的開発プラント新設
63年 (1988)
4月
ビスフェノールA事業を三井石油化学工業株式会社(現・三井化学株式会社)に譲渡
平成
2年 (1990)
6月
フォトレジスト材料の生産を開始
3年 (1991)
1月
特殊ビスフェノールズプラント新設
3月
ビフェノール及び各種ビフェノール類の製造を開始
5年 (1993)
1月
メタルフリープラント新設
 
11月
和歌山工場 ISO9002 認証取得
7年 (1995)
10月
ビフェノール専用プラント稼動開始
9年 (1997)
3月
増資(増資後の資本金15億50万円)
11年 (1999)
4月
和歌山工場 ISO14001認証取得
13年 (2001)
11月
特殊ビスフェノール事業のドイツでの企業化を目的として、バイエル社及び三井物産株式会社と共同で合弁会社 Hi-Bis GmbH (ハイビス社) を設立
14年 (2002)
3月
ビフェノール第2プラント新設
15年 (2003)
4月
Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 特殊ビスフェノールプラント(ドイツ)建設着工
16年 (2004)
12月
Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 営業開始
19年 (2007)
6月
大阪支店廃止
20年 (2008)
2月
ビスフェノールFプラント増設
21年 (2009)
1月
精製BHT(酸化防止剤)プラント新設・製造開始
26年 (2014)
9月
Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 特殊ビスフェノールプラント増設
 
11月
当社創業100周年
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