沿革

1914(大正3年)11月
創業者の由良浅次郎らが由良精工合資会社を設立
日本で最初にベンゼン精留装置を建設し、アニリンの工業化に成功する
1915(大正4年)1月
小雑賀工場(現 和歌山工場)を建設
1915(大正4年)2月
合成フェノールの製造を開始
創業当時の従業員の写真
(創業当時の従業員)
1942(昭和17年)9月
本店を東京市日本橋区に移転 (※現在の東京都中央区)
1948(昭和23年)9月
京都研究所を設立
京都研究所 正門と研究風景の写真
(京都研究所 正門と研究風景)
1952(昭和27年)10月
共和電化工業(旧・由良化学工業)株式会社と合併し由良精工株式会社を設立
1953(昭和28年)6月
東京地方裁判所に会社更生法を申請
1953(昭和28年)7月
会社更生手続き開始 管財人に長澤一夫、管財人代理に大野俊雄が選任される
1953(昭和28年)
第一通商(現・三井物産株式会社)が資本参加
1953(昭和28年)12月
由良浅次郎が代表取締役社長を退任 管財人に長澤一夫、管財人代理に大野俊雄、代表取締役に財津 武、取締役に浦田文二郎および由良章三、監査役に河本喜与之を選任する
1954(昭和29年)3月
ジフェニルアミンの製造を開始
1954(昭和29年)7月
会社更生計画案が決定
1955(昭和30年)10月
社名を本州化学工業株式会社に変更
初代社長に長澤一夫が就任
1956(昭和31年)3月
会社更生手続き終結が決定
1956(昭和31年)5月
第2代社長に浦田文二郎が就任
1958(昭和33年)1月
西ドイツ(現・ドイツ)のヒュルス社とベンゼン水添法シクロヘキサノン製造技術で提携
西ドイツ(現・ドイツ)のヒュルス社とベンゼン水添法シクロヘキサノン製造技術で提携
(和歌山工場におけるガイスター博士と由良章三(写真右))
1960(昭和35年)7月
増資(増資後の資本金275百万円)
1960(昭和35年)10月
シクロヘキサノンの製造を開始
1961(昭和36年)3月
ビスフェノールAの製造を開始
1961(昭和36年)12月
東京証券取引所市場第二部に上場
増資(増資後の資本金450百万円)
1964(昭和39年)3月
創業者 由良浅次郎が死去
1969(昭和44年)4月
ハイメタクレゾール酸、粗BHTの製造を開始
1970(昭和45年)7月
OSBPの製造を開始
1971(昭和46年)1月
トリメチルフェノールの製造を開始
1973(昭和48年)2月
第3代社長に安西一二が就任 (浦田社長が相談役、会長に就任)
1977(昭和52年)3月
第4代社長に太田正雄が就任
1977(昭和52年)11月
増資(増資後の資本金500百万円)
1979(昭和54年)3月
第5代社長に浦田文二郎が就任(会長から復帰)
1980(昭和55年)3月
第6代社長に八木澤久男が就任
1984(昭和59年)3月
第7代社長に末弘賀壽彦が就任
1984(昭和59年)10月
京都研究所と和歌山工場研究部門を統合し、総合研究所を設立
1984(昭和59年)10月
第8代社長に八木澤久男が就任(末弘社長の死去により)
1985(昭和60年)6月
多目的開発プラント新設
1986(昭和61年)3月
第9代社長に鈴木千太郎が就任
1988(昭和3年)3月
第10代社長に藤木俊一が就任
1988(昭和63年)4月
ビスフェノールA事業を三井石油化学工業株式会社(現・三井化学株式会社)に譲渡
1990(平成2年)6月
フォトレジスト材料の生産を開始
1991(平成3年)1月
特殊ビスフェノールズプラント新設
1991(平成3年)3月
ビフェノール及び各種ビフェノール類の製造を開始
1993(平成5年)1月
メタルフリープラント新設
1993(平成5年)6月
第11代社長に水ノ上嘉孝が就任
1993(平成5年)11月
和歌山工場 ISO9002 認証取得
1995(平成7年)10月
ビフェノール専用プラント稼動開始
1997(平成9年)3月
増資(増資後の資本金15億50万円)
1999(平成11年)6月
第12代社長に戸川 晋が就任
1999(平成11年)4月
和歌山工場 ISO14001認証取得
2001(平成13年)11月
特殊ビスフェノール事業のドイツでの企業化を目的として、バイエル社及び三井物産株式会社と共同で合弁会社 Hi-Bis GmbH (ハイビス社) を設立
2002(平成14年)3月
ビフェノール第2プラント新設
2003(平成15年)4月
Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 特殊ビスフェノールプラント(ドイツ)建設着工
2003(平成15年)6月
第13代社長に竹野壽彦が就任
2004(平成16年)12月
Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 営業開始
2005(平成17年)6月
第14代社長に武田靖弘が就任
2007(平成19年)6月
大阪支店廃止
2008(平成20年)2月
ビスフェノールFプラント増設
2009(平成21年)1月
精製BHT(酸化防止剤)プラント新設・製造開始
2009(平成21年)6月
第15代社長に佐野景一が就任
2009(平成21年)9月
日本最初のベンゼン精留装置が経済産業省より「近代化産業遺産」に認定される
日本最初,ベンゼン精留装置,経済産業省より「近代化産業遺産」に認定,近代化産業遺産認定書
(わが国初のベンゼン精留装置と近代化産業遺産認定書)
2011(平成23年)6月
第16代社長に船越良幸が就任
2014(平成26年)9月
Hi-Bis GmbH (ハイビス社) 特殊ビスフェノールプラント増設
2014(平成26年)11月
当社創業100周年
2015(平成27年)6月
第17代社長に生坂敏行が就任
2017(平成29年)6月
第18代社長に福山裕二が就任

本州化学工業株式会社 創業100周年 ビデオ